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金属铟锭,粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料 1金属铟锭,粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料 2
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金属铟锭,粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料

型号:In
品牌:TYR
原产地:中国
类别:冶金矿产、能源 / 冶金矿产 / 有色金属
标签︰金属铟 , 蒸发镀膜材料 , 溅射靶材
单价: ¥1000 / 件
最少订量:1 件
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惠州市天亿稀有材料有限公司

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产品描述

金属铟,Indium, In, CAS号:7440-74-6

我公司提供的金属铟 In产品规格如下:

高纯金属铟 In粉, 纯度: 99.99%,99.999% 粉末粒度: -325目,-200目, <10um, 可以定制.

高纯金属铟 In溅射靶材, 纯度: 99.99%, 99.999% , 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆棒,台阶圆片,台阶矩形,其他客户订制

高纯金属铟 In蒸发镀膜材料, 纯度: 99.99%, 99.999% , 规格1-10mm, 6 x 6, 3 x 3mm等或定制, 形状: 不规则颗粒,丝状, 圆粒

高纯度高纯金属铟 In 薄(铟箔片), 高纯金属铟 In丝.

高纯铟合金溅射靶材, 纯度: 99.99%, 比如: 铟锡合金In-Sn, 铟锑合金In-Sb, 铟锌合金In-Zn, 铟银合金In-Ag, 铜铟硒合金Cu-In-Se, 铜铟镓硒合金 Cu-In-Gs-Se (CIGS)等, 尺寸:直径 355.6mm (14英寸) ,长度 (250mm) ,宽度 (200mm) ,厚度 (20mm), 形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆棒,台阶圆片,台阶矩形,其他客户订制

高纯铟化合物半导体材料: 纯度: 99.99%, 99.999%, 比如锑化铟(InSb)、磷化铟(InP)、砷化铟(InAs),硒化铟 (In2Se3)等, 可提供材料状态: 粉末, 颗粒, 板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆棒,台阶圆片,台阶矩形等.


金属铟, 有延展性的银灰色质软的易熔金属, 能拉成细丝. 熔点156.61℃。沸点2060℃。相对密度:7.31g/cm3, 原子量:114.818, 从常温到熔点之间,铟与空气中的氧作用缓慢,不易失去光泽, 表面形成极薄的氧化膜,温度更高时,与氧、卤素、硫、硒、碲、磷作用。大块金属铟不与沸水和碱反应,但粉末状的铟可与水作用,生成氢氧化铟。燃烧时会发生鲜紫色的火焰. 铟与冷的稀酸作用缓慢,易溶于浓热的无机酸和乙酸、草酸。铟能与许多金属形成合金, 以降低金属的熔点. 可作低熔合金、轴承合金、半导体、电光源等的原料, 主要作飞机用的涂敷铅的银轴承的镀层. 铟银合金或铟铅合金的导热能力高于银或铅。铟箔往往插入核反应堆中以控制核反应的进行,铟箔在反应堆中与中子反应后便呈现放射性,其呈现放射性的速度,可作为测量和反应进行的一个有价值的参数.

铟单独的矿物极少,绝大多数伴生于锡、铅、锑、锌等矿中.

用途:
铟锭因其光渗透性和导电性强,主要用于生产ITO靶材(用于生产液晶显示器和平板屏幕)
用于电子半导体领域
用于焊料和生产合金领域
用于较高温度下的真空缝隙填充材料。
在光电子领域,铟及其化合物半导体具有广泛的用途, 如化合物半导体如锑化铟(INSB)、磷化铟(INP)、砷化铟(INAS)等
铜铟硒(CIS)等三元化合物薄膜半导体材料,由于有价格低廉、性能良好和工艺简单的优点,将成为今后大力发展太阳电池工业的一个重要方向,促使铟在该领域的应用不断增大

产品说明︰金属铟粉,金属铟锭, 金属铟丝, 溅射镀膜,蒸发材料

产品图片

金属铟锭,粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料 1
图 1
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图 2

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