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强大而多功能的 Cesar® 射频电源平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。

高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现最优化，从而使您的投资和制程生产力得到最大化的利用。一个全面而高度灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了无与伦比的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本最小化。

典型应用：

高密度等离子体化学气相淀积（HDP CVD）

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）

刻蚀-RIE/ICP

物理气相沉积

等离子清洗

优点

  更长的制程正常运行时间

  更高的操作简易性和灵活性

  无需定制组件提前期的定制化性能

  长期的使用简易性，节省成本

功能

  精简的流线型设计

  标准的平台包装

  高效率——低发热量

  200和400 VAC 的输入选择

  两个模拟用户端口选择

  RS-232、以太网及 Profibus 通讯

  多功能前面板

  便利、全面的操作菜单

  CEX（相位同步）操作模式