基本参数
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品牌： |
Alpha |
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用途： |
半导体/EMC产品、 基板表面污染物清洗 |
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型号： |
AL-76 |
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加工定制： |
否 |
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类型： |
清洗机 |
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功率： |
1200 |
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适用星级： |
五星级 |
详细说明
英展有限公司代理德国微波等离子清洗机设备， Alpha Plasma 研发和生产世界高质量的等离子系统，适用于半导体和复合材料工业的表面活化，清化和镀膜工艺。
| 清洗EMC产品微波等离子vs 射频 三大优势 | |
| 微波（Alpha Microwave） | 射频（RF） |
| 可清洗尺寸75*244mm的EMC产品，清洗很干净 | 无法清洗，清洗不干净 |
| 针对EMC小杯子材料，能够完全清洗到底部，无损伤 | 清洗EMC产品无优势，杯子小，射频清洗不到底部 |
| 腔体无污染，无需清洗腔体 | 由于再沉积导致基板或者腔体交叉污染，需要频繁清洗 |
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微波等离子清洗机 AL76 的特点：
微波等离子清洗机 AL76 紧凑型
提升引线键合品质 提升塑封成形品质
提升装片品质
提升倒装芯片底部填充品质
可满足360全芯片封装
技术规范:
工作腔体: 铝
容积 :76 公升
腔体尺寸 :宽 400 mm X 长 490 mm X 高 400 mm
腔体的门 :抽屉型，具有观察口
微波功率 :2,45 GHz,可调范围 50 至 1200 Watts
气体供应 :3 个标准型的数字气体流量控制器
真空规格 :Baratron, 1 - 1000 Pa
真空系统 :DN 63 ISO-K
真空阀门 :电-气 节流阀
系统控制: PC, Windows, RS 232, USB, 以太网 (也适用于远程控制) 10,4” 显示器,触摸屏, 图形化的用户界面软件 Windows Office 可兼容:
现状和错误信息,可存储工艺数据和错误信息
工艺数据的输出
工艺参数可进行图形监控
自动和手动的操作模式
可选项真空泵 复合型真空泵,吸取能力 250 m3/h气体管道 额外的数字气体控制 (增加到4个) 可旋转的工作台 铝,350 mm, 速度可调节 ECR 设施 铝,
带有永久磁性的机架装置 设施 3/N/PE AC 50 Hz 400/240 V 16 A
尺寸 宽 1050 mm X 长 800 mm X 高 2020 mm (含指示灯)
重量 95 kg 不含泵 ; 260 kg 含泵
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