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立式扩散炉

设备用途：

   CL系列的立式扩散炉为我公司根据客户需求定制的专用设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，该设备具有：关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备。

设备主要技术指标：

1. 外型形式：单管立式，加热；炉体和石英管可单独自动升降定位 

2. 硅片尺寸：156*156方片/准方片

3. 工作温度范围：400-1200℃

4. 恒温区精度：±0.5℃/300mm

5. 恒温区长度：≥300mm，单次可装载10片156*156方形硅片，背靠背装片模式，配石英舟

6. 扩散方式：设备配置真空系统，支持负压扩散方式

7. 气路系统：三路气体系统，采用进口MKS质量流量计、气动阀、等进口部件

8. 温度控制系统：PLC+触摸屏可编程控制方式，自动加手动可方便切换，温控系统采用进口高精度温控仪，温度、流按工艺自动调节

9. 报警及保护：超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护

10. 尾气处理：设备配备尾气处理系统，采用溶液吸收发吸收尾气中的有害成分

11.冷却系统：设备配有冷水系统，用于保护密封装置及冷却加热器外壳

我公司可根据客户要求，专业定制各式扩散炉、退火炉、烧结炉、真空焊接炉、CVD炉、加热

电炉及加热装置等，欢迎广大客户来电咨询。