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  电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产，经北京市科委鉴定，主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。
  5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品分别经国家标准物质研究中心和信息产业部专用材料质量监督检验中心抽样检验，纯度大于99.999%，总杂质含量小于5ppm，产品性能指标与国际品牌相当。
  5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用，制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。
  高纯氯化氢系列产品处国内领先地位，填补了国内空白，独家生产，并通过ISO9001:2000质量体系认证，产品质量可靠。       产 品 包 装：
  氯化氢气体为强刺激性，不燃气体，溶水后有强烈腐蚀性。产品包装于高压专用钢瓶中，处于液态。专用钢瓶为钢质无缝气瓶，瓶内抛光处理。瓶阀为抗腐蚀不锈钢隔膜阀。钢瓶设计压力为12.5Mpa,工作压力约5-6Mpa。