| 型号： | - |
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| 品牌： | - |
| 原产地： | - |
| 类别： | 电子、电力 / 仪器、仪表 / 实验仪器装置 |
| 标签︰ | 纳米压印光刻机 , NIL光刻机 , 热压印 |
| 单价： |
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| 最少订量： | - |
| 即时通讯: |  | 最后上线︰2019/04/16 |
请选择合适的型号
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NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印） |
zui大75毫米直径压印面积 热压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 |
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NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） |
zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
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NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印） |
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 |
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NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） |
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
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NX-2500 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统 |
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 |
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NX-2600 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统 可选背面对准 |
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 标配5”模板,标配4”直径基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源 |
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Lumina200多功能高精度光刻机 |
4寸基板，5寸掩膜 |
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Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统 |
Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8” |
