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MCF精密研磨抛光机 1
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MCF精密研磨抛光机

型号:GNAD
品牌:MCF
原产地:以色列
类别:电子、电力 / 其它电力、电子
标签︰研磨机 , 以色列研磨机 , 研发型研磨机
单价: €100000 / 件
最少订量:1 件
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上海螣芯电子科技有限公司

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产品描述

主要适用的材料包括:硅,砷化镓,铌酸锂,光纤,碳化硅,蓝宝石,碲锌镉等多种材料。

 

设备结构及功能

GNAD 系列精密研磨抛光机包括主机,远程操控系统,夹具,真空系统,填

料系统,研磨抛光盘等。

GNAD 系列精密研磨抛光机,主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料,整

机防腐,适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。

设备的功能参数,可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户

工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。控制系统可根据用户工艺要求选

择独立于设备主机的距离,这个配置既提高了 InP 化学磨抛工艺过程中对操作人

员健康安全的保护等级,更是避免了磨抛过程中产生的磨抛液废料腐蚀操作控制

系统。通过独立的远程控制系统也可实现多机联控,通过一个控制终端实现对多

台磨抛机的控制,也方便了工艺过程中更改工艺参数的操作,更实现多道工艺同

时 数控,大大提高了工作效率及工艺精度。

夹具可在线监测样品的去除量,精度可实现 1um。压力的范围可实现 0-5 公斤。并可根据用户工艺要求定制各种角度附件等非标夹具附件,实现对非标形状

样品的抛光及角度抛光。

真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同

工艺要求,真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。

自动填料系统可根据不同的工艺要求,调整滴料速度,并在研磨料用完同时

自动停机,以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。

设备可支持双多通道进料系统同时工作,实现化学研磨抛光等各种复杂的工

艺。

研磨抛光盘运行由驱动部分控制,盘的转速可从每分钟 0 转到每分钟 120

转。这个速度变化范围有效保证磨抛不同硬度和大小材料样品的速率,从而实现

更高的工艺指标。研磨盘与抛光盘的更换简单快捷,嵌入式盘, 使得设备能非

常快速的从研磨工艺转到抛光工艺,大幅缩短工艺时间。

设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统,大大提升了磨抛效率的同时,也更

好的控制样品平整度。摆臂控制样品驱动系统可使三个工位的夹具摆幅范围实现

0-100%。这一功能设计,可以保证研磨抛光过程中实现样品的全摆动抛光,

大大提升了设备的抛光产能及效率。

设备具有实时在线监测工艺过程中磨抛盘面形的功能,并可实时在线修整磨

抛盘的面型。盘面形控制精度 1um。

GNAD 系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却功能。盘温接近

预设温度警戒值,设备会自动启动冷却功能,保持磨抛盘在工艺要求的温度范围

内运转工作。

GNAD 系列磨抛设备具有设备定时功能,可连续工作运行时间 10 小时。同时,

设备具有预设工作时间功能,预设时间达到,设备自动停机,大大提升了设备的

自动化功能的同时也极大提升了工艺标准化操作。

设备具有自动清洗功能。根据工艺要求可实时在线冲洗磨抛工作区域。流速,

清洗时间等参数可精确数控。

 

设备特点

 独立远程操控系统,强腐蚀化学抛光过程实现人机分离远程操控。

 可在一个控制终端实现多机联控

 在线实时磨抛盘温控及冷却功能

 多通道进料系统

 磨抛盘自动冲洗功能

设备参数

电源:

240V、10A / 110V、10A

晶圆尺寸:

GNAD40

4”/100mm x 3

GNAD60

6”/150mm x 3

工作盘直径:

GNAD40 380mm

GNAD60 420mm

电机转速:

0-120rpm

盘转速:

0-100rpm

摆臂摆动频率:

0-30spm

工作时间:

0-10 小时

 


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MCF精密研磨抛光机 1
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