“SELFA”是一种高粘性,易剥离的UV保护膜,具有优越的耐热性(220℃,2hr +Reflow)和抗化性,以产生气体方式实现无损伤剥离,并且经过热制程依然无残胶。
其优越的性能可实现半导体的新制程开发: