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PECVD(等离子体增强化学气相淀积)系统 1
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PECVD(等离子体增强化学气相淀积)系统

型号:JQ
品牌:精诚华旗
原产地:中国
类别:工业设备 / 电子电气产品制造设备
标签︰HVPE , LPCVD , PECVD
单价: -
最少订量:1 台
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青岛华旗科技有限公司

免费会员山东省青岛市
即时通讯:最后上线︰2014/08/18

产品描述

产品应用:主要用于生长钝化与多层布线介质用的氮化硅、氧化硅及掺杂等,以及125mm×125mm或156mm×156mm太阳能硅片上淀积氮化硅减反射钝化膜。

产品特点:
     用工控机对工艺时间,温度,气体流理,阀门动作,反应室压力实现全自动控制
          ◆     采用进口压力控制系统,闭环系统,稳定性高
          ◆     采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路气密性
          ◆     具有完善的报警功能及安全互锁装置
          ◆     具有超高温报警,MFC报警,反应室压力报警,RF报警,高压空气压力报警,高压空气压力报警,N2压力报警,水流报警等
          ◆     悬臂式送料装置
               ◆  适合晶体硅太阳能新工艺的探索实验

主要技术指标: 
 
1.        工作温度:150~500℃,
2.        装片数量(太阳能电池片):250片/每炉管(125mm×125mm) 192片/每炉管(156mm×156mm)
3.        压力调节范围:13~300Pa连续可调,闭环控制
4.        温度长度(150~500℃):1000mm
5.        温区稳定性:±2℃(450℃)
6.        淀积速率:30nm/min
7.        极限真空度:优于1Pa
8.        淀积膜均匀性:片内≤±5%
9.        射频单元:进口RF电源,40/400KHZ连续可调

 

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PECVD(等离子体增强化学气相淀积)系统 1
图 1

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