型号: | CVD |
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品牌: | 精诚华旗 |
原产地: | 中国 |
类别: | 工业设备 / 其他工业设备 |
标签︰ | HVPE , LPCVD , PECVD |
单价: |
-
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最少订量: | 1 台 |
即时通讯: | 最后上线︰2014/08/18 |
系统组成:
由生长室、气源、气体控制系统、真空系统、整机的计算机控制系统等组成。系统各工艺参数均可由计算机自动控制( WINDOW 界面)。
技术说明:
1 、生长过程中气体的流量、衬底转速度、衬底的加热温度、生长室的工作压力等工艺参数由计算机实时自动控制。
2 、系统生长室的本底真空度可达 1.0 × 10 -5 Pa ,生长压力可以在 1.0 ~ 1.0 × 10 -5 Pa 的范围内设定,预处理室的真空度可达 1.0 × 10 -5 Pa
3 、系统采用磁流密封技术,样品可在 0 ~ 1500rpm 范围内旋转。
4 、系统可用于 III - V 族氮化物材料及其低维或多层结构的常压与低压生长。
5 、系统配置:进口组件,模块化系统。
产品供货形式:
□可与大学、科研院所单位合作完成相应的整机制造。
□可按要求提供相应的组件,如气路单元制造、反应室设计制造、电控设计制造、计算机控制系统、机柜加工、气瓶柜、气路盘/箱、尾气处理等等。
□二手设备的更新改造。
产品类型:科研型(R&D)
应用领域:化合物半导体-LED/半导体照明等科研领域
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