产品描述
1、设备名称和型号
1.1设备名称:晶片研磨后清洗机
1.2设备型号:NXXD-4SH-06A
2、设备用途:
用于清洗去除研磨后晶片表面上的金刚砂,AL2O3,SIC,金属离子(NA+,SI+,K+,AL3+)等。
3、设备能力和清洗硅片尺寸
3.1 晶片尺寸:3″、4″圆片及20×30方片
3.2 处理3″、4″晶片数:50片/2花篮(PFA花篮),一批
3.3处理20×30方片数:100片/4花篮(PFA花篮),一批
3.4 处理频率:1批10分钟(标准)
4、设备各部分主要技术参数
4.1整机
² 尺寸(参考):2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H);
² 主要材料:优质磁白10mmPP板,优质不锈钢骨架;
² 台面板为10mm洞洞板;
² DIW管路及构件采用国产优质PP管材,需满足10--15MW去离子水水质要求;
² 碱管路采用PFA管;
² 附件:1把水枪,1把气枪;
² 设备顶部装有照明灯;
4.2纯水(DIW)快排槽(1、3、5#)
² 数 量 3套;
² 内槽尺寸 370(长)×280mm(宽)×230mm(高)
² 槽体容量 22升
² 工作温度 室温
² 槽体材料 N PP材料热弯/焊接组合加工而成,配盖
² 清洗方式 上喷淋,下注水
² 注入时间 0-9999秒,可设置
² 快排参数 0-9999秒,可设置,1-99次
² 排液方式 重力排液,排液时间 < 5秒钟
4.3 NaOH药液清洗槽(2、4#)
² 数 量 2套;
² 内槽尺寸 370(长)×280mm(宽)×300mm(高)
² 槽体容量 26升
² 工作温度 室温----50℃,可设置,精度±2℃
² 槽体材料 PVDF或SUS316热弯/焊接组合加工而成
² 超声系统 功率2KW,频率40KHz
² 排液方式 重力排液
² 加热方式 内置式加热管,配温度传感器和液位传感器。槽内有N2鼓泡功能,使
槽内液体温度加热均匀,加热器功率为2.0KW
4.4 溢流槽(6#)
² 数 量 1套;
² 内槽尺寸 370(长)×280mm(宽)×230mm(高)
² 槽体容量 22升
² 工作温度 室温
² 槽体材料 NPP材料热弯/焊接组合加工而成
² 清洗方式 下注水+氮气股泡
² 注入时间 0-9999秒,可设置
² 排液方式 重力排液,排液时间 < 5秒钟
² 槽体设有掏渣口,槽体底部设有NPP材质3--4¢洞洞过滤板,防止碎硅料堵塞管路;
² 配手动透明PVC材质盖,防止停机时污染;
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