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多功能真空磁溅射设备

物理气相沉积 PVD
♦ 溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并最终在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射是把磁控原理与普通溅射技术相结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进溅射的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。磁控溅射技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。

PVD磁控溅射镀膜是在真空室中进行，在工件上形成一层薄而均匀的镀膜。
钛、铬、铝、不锈钢、银、铜、硅或其他元素通过磁控溅射蒸发。

♦ 应用磁控溅射技术的PVD产品在集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装等领域得到了广泛的应用。在塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。
磁控溅射镀膜机主要是使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

应用范围
主要用于在已预处理好的塑料、陶瓷、金属等制品表面镀制金属膜、仿金膜等，从而获得光亮美观，价廉的塑料，陶瓷表面金属化制品，广泛使用于工艺美术，装潢装饰，玩具等领域。更换不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。

结构特点
1、同时配备先进的圆柱磁控溅射装置和高效的电阻加热蒸发装置，将磁控溅射技术和加热蒸发技术的有效

我们提供整套机器也生产磁控溅射阴极，有需要请随时联系。