首页 > 产品信息 > 化工 > 化学试剂

清洗硅片对清洗剂要求很高，为达到理想的清洗效果，按不同的目的和工艺条件，应正确地选用清洗剂。清洗剂主要分为碱性和酸性。

■ JH-15硅片清洗剂（双主份）

主要特点
1.本剂主要由A、B两部分组成，其中A为碱性组分，B为弱酸性表面活性剂组分。
2.本剂需在超声波清洗设备中加温使用。
3.本剂对重污染硅片清洗有特效,无需添加氢氧化钾或氢氧化钠使用。

■ JH-16型硅片清洗剂（单主份）

主要特点
1.本剂主要由弱碱和低泡表面活性剂组成。
2.本剂需在超声波清洗设备中加温使用。
3.本产品适用于轻污染硅片的清洗。
4.本品根据客户使用情况可添加氢氧化钾或氢氧化钠配合使用。

■ JH-17 型酸性硅片清洗剂

主要特点
1.本剂主要由弱酸和低泡表面活性剂组成。
2.本剂对重污染硅片清洗有特效。
3.本剂添加有缓蚀剂，对清洗设备无腐蚀。