| 型号： | frd-301 |
|---|---|
| 品牌： | 福润德 |
| 原产地： | 中国 |
| 类别： | 工业设备 / 电子电气产品制造设备 |
| 标签︰ | pecvd设备 , pecvd专用炉 , pecvd化学沉积设备 |
| 单价： |
¥65000
/ 台
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| 最少订量： | 1 台 |
| 即时通讯: | 最后上线︰2017/09/15 |
用等离子体增强的化学气相沉积法(PECVD)是在等离子的帮助下进行处理的薄膜沉积工艺。在众多的等离子产生办法中，泰斯达PECVD反应系统使用了高密度的等离子源，如高频（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和电子回旋共振（ECR-PECVD）。其浓密的等离子适用于薄膜太阳能电池、表面改性、光和工业镀覆、氮化硅钝化、金刚石薄膜和其他。泰斯达所提供的PECVD系统可为客户个体制造和研发需求量身定制。
RF-PECVD
非晶和微晶硅薄膜可以通过RF-PECVD进行高经济效益的沉积。这些薄膜组成了非晶硅太阳能电池的吸光层或串联硅电池（非晶硅+微晶硅）。我们提供了为客户设计的RF-PECVD系统，可以在任何类型的太阳能电池上使用。非晶硅太阳能电池的泰斯达标准的RF-PECVD系统被配置为四个处理室群。其设计可处理高达12"/300 mm见方的基板。处理室可以自动或手动装载。这个系统是与FCS-10/30处理控制器和DCS30数据收集系统同时出现的。
