型号: | - |
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品牌: | 福润德 |
原产地: | 中国 |
类别: | 电子、电力 / 其它电力、电子 |
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单价: |
¥1
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最少订量: | 1 件 |
最后上线︰2024/09/03 |
扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业,对所加工的硅
片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、 控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
扩散炉技术指标:
可处理硅片尺寸:2—12英寸
外型形式:卧式1—4管结构
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1℃/24h
温度斜变:可控升温速率15℃/min
可控降温速率:5℃/min
送片装置:手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:手动浮子流量计
控制方式:程控