In-Line Sputter 连续式溅镀设备系统
产品描述
In-Line Sputter 连续式溅镀系统：
用于：抗电磁波（EMI）、产品装饰膜（NCVM）、被动元件（Chip R)、触控荧 （T.P）彩色虑光片（C.F）、显示器（TFT;OLED)、薄膜太阳能电池（Solar cell)等
Inter Back Sputter 往复式溅镀式设备：
用于：半导体后段封装（UBM)、抗反射膜（AR)、RD制程开发设备
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