| 型号： | - |
|---|---|
| 品牌： | - |
| 原产地： | 美国 |
| 类别： | 工业设备 / 电子电气产品制造设备 |
| 标签︰ | 紫外光刻机 , 曝光机 , 光刻机 |
| 单价： |
-
|
| 最少订量： | - |
| 最后上线︰2012/06/18 |
产品系列包括经济型台式光刻机、高精度半自动和高精度全自动模式。
能力 | 数值 |
X, Y方向运动距离 | +/ |
Z方向运动距离 | +/-1250微米 |
运动增益 | 0.25微米，最小可达0.1微米 |
X, Y方向侧向偏离度 | Z方向运动100微米偏离度小于0.1微米 |
Theta; 精度 | +/-3°；0.001° |
卡盘找平 | 楔形补偿平衡系统 |
光罩旋转 | +/-15° |
光罩和基片间压力 | 可以自行设置 |
光刻模式 | 靠近、软接、硬接和真空接触 |
预对准能力 | 是 |
精对准能力 | 小于1微米 |
光罩尺寸 | 最大 |
光刻能力： | 0.6微米（近紫外）；0.4微米（中紫外）；0.25微米（深紫外） |
适用样品尺寸 | 50 ～ |
