型号: | CL |
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品牌: | 晨立 |
原产地: | 中国 |
类别: | 工业设备 / 电子电气产品制造设备 |
标签︰ | 扩散炉 , 高温扩散炉 , 半导体扩散炉 |
单价: |
¥60000
/ 台
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最少订量: | 1 台 |
最后上线︰2024/06/12 |
高温扩散炉
外型形式:
卧式1—4管结构高温扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
技术指标: 可处理硅片尺寸:2—8英寸
工作温度:200℃—1300℃
恒温区长度及精度:200mm—100mm≤±0.5℃
单点温度稳定性、重复性:≤±1.5℃/24h
温度斜变:可控升温速率20℃/min,
可控降温速率:5℃/min
送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
气路系统:1—5路工艺气体/管
气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计
控制方式:工控机、触摸屏