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该技术采用弯管磁过滤原理，把由阴极电弧蒸发出来的金属离子、碳离子通过电场磁场的聚焦、偏转、过滤等步骤后，进一步沉积到工件表面，其镀膜粒子为离化的等离子，是目前涂层沉积离化率较高的技术方式。与普通镀膜PVD、CVD镀膜技术相比具有更高，更均匀的能量，从而在低温条件下可在工件表面形成致密、超高硬度、优良附着力的膜层，解决了其他传统镀膜 技术不可避免的由于高温沉积而引发的众多问题。

沉积的碳层，也就是DLC层，具有以下特点：

厚度μm0.2～0.5，硬度（HV）5000～7000

不高于温度450℃

涂层生成温度100～150

摩擦系数0.1～0.15

适用范围 ：超高硬度，超低摩擦系数，抗磨损性。适用于铜铝等粘性金属、PCB线路板、木工刀具的加工及模具，光学模具，滑动部件及石墨加工等

技术特点：

1、特殊阴极/ 阳极设计，确保电弧稳定性

2、特有的侧面引弧，稳定减少污染

3、合理磁场设计，稳定控制弧斑运动

4、靶材利用率高，使用周期长

5、全自动工艺，操作方便

6、参数记录，可存储和输出