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德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 1德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 2德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 3德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 4德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 5
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德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500

型号:SI500
品牌:SENTECH
原产地:德国
类别:电子、电力 / 其它电力、电子
标签︰刻蚀机 , sentech刻蚀机 , RIE/ICP刻蚀
单价: -
最少订量:1 件
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上海螣芯电子科技有限公司

免费会员上海市闵行区
最后上线︰2023/08/14

产品描述

 

系统配置:

编号

设备配置

具体指标

1

晶片尺寸

8",使用载盘可以适用于2", 3", 4", 6" 晶圆, 以及小片样品)

2

等离子源

PTSA ICP等离子源

13.56 MHz, 功率1200 W

集成自动匹配网络

3

射频偏置电源

13.56 MHz, 600 W

4

电极温控

-30?C ~ 250?C (低温可选-150 ?C

5

反应腔本底真空

≤ 1 x 10-6 mbar

6

气体管路

标准气柜***多可以配置16路气体管道。(可以增加气柜)

7

PC

Windows 7 Professional

SENTECH高级等离子设备操作软件

8

预真空

配置。

9

He晶片冷却

配置。

10

机械钳

配置。

11

深硅刻蚀典型指标

-  刻蚀速率:     2~5 ?m/min

-  选择比(SiO2): 90:1

 

特性:

全自动/手动过程控制

Recipe控制刻蚀过程

智能过程控制,包括跳转、循环调用recipe

多用户权限设置

数据资料记录

LAN网络接口

Windows NT 操作软件

 

选项:

增加气路

PTSA源石英窗口

在线监测窗口,穿过PTSA源

循环冷却器,用于下电极温度控制 (-30?C to 80?C)

高密度等离子体磁性衬板

对等离子源和磁性衬板的外部升高装置

Cassette到cassette操作方式

穿墙式安装方式

干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统


产品图片

德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 1
图 1
德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 2
图 2
德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 3
图 3
德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 4
图 4
德国SENTECH刻蚀机RIE刻蚀ICP刻蚀 SI500 5
图 5

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上海市闵行区秀文路898号5号楼911室

电话︰
13122976482
传真︰
0-21-51567107
联系人︰
娄先生 (销售总监)
手机︰
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