型号: | SI500 |
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品牌: | SENTECH |
原产地: | 德国 |
类别: | 电子、电力 / 其它电力、电子 |
标签︰ | 刻蚀机 , sentech刻蚀机 , RIE/ICP刻蚀 |
单价: |
-
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最少订量: | 1 件 |
最后上线︰2023/08/14 |
系统配置:
编号 |
设备配置 |
具体指标 |
1 |
晶片尺寸 |
8",使用载盘可以适用于2", 3", 4", 6" 晶圆, 以及小片样品) |
2 |
等离子源 |
PTSA ICP等离子源 13.56 MHz, 功率1200 W 集成自动匹配网络 |
3 |
射频偏置电源 |
13.56 MHz, 600 W |
4 |
电极温控 |
-30?C ~ 250?C (低温可选-150 ?C) |
5 |
反应腔本底真空 |
≤ 1 x 10-6 mbar |
6 |
气体管路 |
标准气柜***多可以配置16路气体管道。(可以增加气柜) |
7 |
PC |
Windows 7 Professional SENTECH高级等离子设备操作软件 |
8 |
预真空室 |
配置。 |
9 |
He晶片冷却 |
配置。 |
10 |
机械钳 |
配置。 |
11 |
深硅刻蚀典型指标 |
- 刻蚀速率: 2~5 ?m/min - 选择比(SiO2): 90:1
特性: l 全自动/手动过程控制 l Recipe控制刻蚀过程 l 智能过程控制,包括跳转、循环调用recipe l 多用户权限设置 l 数据资料记录 l LAN网络接口 l Windows NT 操作软件
选项: l 增加气路 l PTSA源石英窗口 l 在线监测窗口,穿过PTSA源 l 循环冷却器,用于下电极温度控制 (-30?C to 80?C) l 高密度等离子体磁性衬板 l 对等离子源和磁性衬板的外部升高装置 l Cassette到cassette操作方式 l 穿墙式安装方式 l 干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统 |