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| 品牌： | - |
| 原产地： | 美国 |
| 类别： | 工业设备 / 电子电气产品制造设备 |
| 标签︰ | RIE刻蚀 , ICP刻蚀 , 等离子刻蚀 |
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| 即时通讯: | 最后上线︰2012/06/18 |
RIE ICP等离子刻蚀机，反应离子刻蚀，感应耦合等离子刻蚀--北京特博万德科技有限公司
适用于Si,SiO2,金属，III-V,有机物等材料的刻蚀，系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀氮化物、氧化物以及任何需要氟基化学刻蚀的薄膜或基片（如碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨以及钨钛）
型号有经济型和高端型，有科研应用的型号和小规模及大规模生产的型号，产品性价比高。欢迎您的来电索取相关产品资料。
