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PECVD等离子增强化学气相沉积 1
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PECVD等离子增强化学气相沉积

型号：-
品牌：-
原产地：美国
类别：工业设备 / 电子电气产品制造设备
标签︰PECVD , 等离子沉积 , 化学沉积
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北京特博万德科技有限公司

免费会员北京市朝阳区
最后上线︰2012/06/18

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可沉积薄膜：氧化物薄膜、氮化物薄膜，氮氧化物薄膜、无定形硅薄膜和碳化硅薄膜等等，根据电极的配置，可用于单基片工艺，也可配备承片盘，处理基片(3”~12”尺寸)，或者多尺寸批处理基片(4x3”，3x4”，7x2”)。产品型号，有研发型，小规模生产型适用于不同的客户要求。

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PECVD等离子增强化学气相沉积 1
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